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恭喜中国!北京连夜宣布一大喜讯,世界瞠目结舌

22纳米“超分辨光刻装备”通过验收

2018年5月,国内最强的光刻机企业上海微电子宣布成功研发90纳米的高精度光刻机,半导体业内人士分析称,攻克了90纳米的技术之后,拿下65和45纳米就是顺理成章的事情。从时间节点上看,上海微电子90纳米光刻机下线之际,荷兰ASML同意出售7纳米光刻机给中芯国际------分析称:如果现在不出售,或许荷兰ASML将再也没有机会赢得1.2亿美元有巨额利润的订单了。

无独有偶,在12月1日前一天的11月30日,官方发布消息,中国科学院光电技术研究所研制的22纳米“超分辨光刻装备”通过验收。未来将可以结合双重曝光技术,用于制造10纳米级别的芯片。

仅从精度的数据上看,我们还是落后于荷兰ASML产品不少,我们离世界之巅尚有距离。芯片行业也的确同国际最高水准有差距,不过我们前进的速度让一部分人开始焦虑。

请记住上海微电子和中国科学院光电技术研究所这两家单位,他们代表了我们的未来。(再言)

(责编:杜鹏飞)

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