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事实?谣传?中科院光刻机帮华为一战定乾坤?

中科院在科技领域的新突破到底是喜忧参半,10年的科技差距,无论怎么样都有必要追赶。

虽说中科院在5nm光刻机上有了重大突破,但并不是说就能够完完全全将芯片制造出来。

另外中科院官网刊登了一篇报道,关于苏州纳米所等在超高精度激光光刻技术研究中获得巨大进展,团队开发了一种新型三层堆叠薄膜结构,可以实现5纳米的特征线宽。

中科院在科技领域的新突破到底是喜忧参半,10年的科技差距,无论怎么样都有必要追赶。

虽说中科院在5nm光刻机上有了重大突破,但并不是说就能够完完全全将芯片制造出来。

但我们需要认清现实的就是,现在我国自主制造的光刻机还在90nm的节点,只能制造90nm的芯片,但ASML已经可以生产5nm芯片。

在这之间差了好几个阶段,有人说差不多是10年的技术。

但很多人了解的不是特别清楚,所以就觉得现在一直被针对的华为可以有救了。

实际不然,如果华为真的使用国产90nm的芯片产品,那华为真的就沦为低端机了。在这个体验感大于情怀感的潮流中,将使华为占不到任何优势。

但就这一技术的突破还是可喜可贺的,毕竟光刻技术的进步也代表着国产科技的进一步强大。

对于芯片领域很多人都是熟悉又陌生的,熟悉是它的名字,陌生的是它的来源发展和作用。

芯片即集成电路。从1930年代开始,元素周期表中的半导体被研究者如贝尔实验室的William Shockley认为是固态真空管的最可能的原料。

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