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40年前光刻机下马,现在中国被芯片扼住喉咙

(一)“芯”

近日,一篇新闻报道在社交媒体刷屏《余承东悲情宣布:麒麟高端芯片将成绝版!台积电不代工,华为怎么办?》。这篇文章虽然说有点标题党的意思,但其中描写的华为大困境是真实的:

余承东表示:“(华为)只是做了芯片的设计,没搞芯片的制造”,那为什么我们自己不能生产芯片呢?因为现在“现在国内的半导体工艺上还没有赶上”。而这根基,在于我们光刻机技术没有跟上时代的发展。

光刻机(Mask Aligner)是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。截至目前,我国光刻机能制造的芯片是14纳米,但是无法满足如华为手机等高端芯片的应用,因此只能从荷兰ASML公司进口。但是西方资本主国家的先进技术对中国层层设防,尤其是美国发动贸易战后,想要进口最新的光刻机更是困难重重。这一切的根源,在于我们自主研发落了后。

上世纪六十年代,我国就开始布局研发光刻机,彼时荷兰光刻机生产巨头ASML尚未成立。1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机。1970年代,中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。1972年,武汉无线电元件三厂编写了行业生产指导《光刻掩模版的制造》。1980年清华大学研制成功第四代分,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平……

然而到了上世纪八十年代,包括运10、直8、远程轰炸机、大型导弹驱逐舰、长城/曙光大型计算机项目、数字焊接系统等一系列军用、民用高精尖技术项目下马,光刻机项目也在其中。彼时武汉无线电元件三厂在光刻机的科研上已经在光刻机项目上有了20多年的技术积累,是有可能实现从量变到质变的过程。然而没有了国家经费的支持,一切都成了空谈。1994年武汉无线电元件三厂破产改制,变成了一家副食品加工厂。那时候所谓“造原子弹的,不如卖茶叶蛋”的,并不是一句空话。

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