虽然我们制造出整台EUV光刻机还有一段距离,但是随着每一项技术的进步,都在奠定国产光刻机的未来,加速国产光刻机的发展。
而且推动了国产光刻机从成熟工艺到高端工艺的迈进。
一旦成功掌握,中国可能会生产出更便宜,成本更低的光刻机设备。
事实证明,外界的限制因素只会让国产科技发展得更快,没有什么力量是可以阻止国产科技崛起的。
对于国内光刻机市场来说,源卓微电子研发的DISS数字光刻机正式下线投产无疑是一个好消息,但是我们也要记住,半导体芯片领域所有的突破都不在一朝一夕,需要不断积累核心技术和经验,更需要有“十年磨一剑”的精神,只要我们不放弃,终会迎来爆发的一天。
(责编:杜鹏飞)
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