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恭喜中国!北京连夜宣布一大喜讯,世界瞠目结舌

全球第一台!分辨力最高!七年磨一剑,中国自主研发的紫外超分辨光刻机,终于来了!前不久,北京传来大消息:中国科学院成功研制出了世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻机,其光刻分辨力达到22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造10纳米级别的芯片。

你没有看错,不是引进,不是模仿,而是自主研发、世界首台。

消息一出,科技圈炸了!要知道,该光刻机使用365nm的光源,单次曝光做到22纳米!

22纳米是什么概念呢?中科院的文章中提到了一个对比:

头发的直径约为80微米,22纳米是头发直径的1/3600。也就是说,这个光刻机能够在头发表面加工各种复杂的结构。

而使用365nm的光源,则相当于我们用很粗的刀,刻出一条很细的线,打破了传统的衍射极限!

那么,这台光刻机与大名鼎鼎ASML荷兰光刻机对比怎么样呢?

举个不恰当的例子吧,这就像是初期的枪械与最厉害的弓箭的对比。早期枪械,比如火铳,无论是射击精度还是射击距离都远远比不上厉害的弓箭;但是很快,狙击枪就把弓箭甩开十万八千里了。

想想《三体》里,三体人的水滴,是怎样摧毁地球人的星际舰队吧。是的,请记住这一天。就在今天,中国绕过国外相关知识产权壁垒,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线。

这意味着中国芯片技术将全面突破欧美封锁,这是中国芯片胜利反击的辉煌一刻,更是中国科技发展的历史一刻!

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