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华为芯片超车，中国光刻机突围，欧盟下场了

当然，具体这个项目到底什么时候能具备现实生产能力还不知道，因为项目也才是刚刚落地，建设需要多久，建设后调试需要多久，到底能具备多大的产能，以及如何根据成果进行产业化，这些都还有很长的路要走。但是，既然理论上成立，那么只要需要，就能“大力出奇迹”，中国就能建设出来，那么距离实践应用就不会太远。

事实上，中国的EUV光刻机也不止清华一个方案，上半年哈工大就攻破了EUV光刻机的光源技术。现阶段，我们的EUV光刻机的技术就差EUV的光源技术了，上半年哈工大也研制出来了，那么投入工程化、产业化时间也不会很远了。

更何况，华为现在已经生产出了7nm的麒麟9000S芯片，这说明我们高端芯片制造技术已经取得重大突破，这就意味着我们会有更多的资源投入到更高端的光刻机技术的研发当中。哪怕相关技术突破距离落地还需要一些时间，在我们实现突破的情况下，我们也等得起。而且，像清华的方案，一旦最终实现落地，那就又是对西方技术的弯道超车了。而且，一旦实现超越，就会形成碾压。

中国的突破正在加速，大国的较量越来越激烈，但此时此刻欧盟千万别糊涂，不要和美国一起打压中国，否则随着中国技术不断取得突破，那么最倒霉的将不是美国而是欧盟。因为，相比欧盟，美国的技术依然有很多处于高精尖的水平，有老本可以吃，欧盟却没有这种优势，因此未来一旦走错路，那可是真的回不来了！甚至，连与中国再合作的机会都没有了！

（责编：李雨）

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