台积电与中芯国际终极对决：中国动手大刀阔斧
或者这样说，作为中国半导体生产设备的龙头企业，
如果对标美国应用材料这样的全球龙头企业的话，北方华创来自半导体生产设备的营收还有在2019年基础上增长30倍的潜力。
如果是对标日本的龙头企业东京电子，美国LAM research这样的企业，那么北方华创的半导体生产设备营收还有增长20倍以上的潜力。
潜力其实就是差距，所以即使再过10年，中国半导体生产设备发展的故事也不可能讲完，
我们的期望，也就是能够争取在2022-2023年实现建设一条28nm节点去美化产线能够开始生产。
到时候预计目标只是搭建一条去美化的28nm节点产线开始生产，其他的28nm产线仍然要依靠美国设备生产，直到国产设备的水平基本能够追平美系设备为止。
而即使是这个“一条去美化生产线”的小目标，也只是有完成的可能性，毕竟半导体生产设备去美化这样的事情，目前还从来没有人做过。
而如果要继续实现7nm以下的产线实现去美化甚至国产化，
还要等EUV光刻机等各种国产生产设备的研发进度，
预计除了EUV光刻机以外的其他设备的进度都会快于EUV光刻机。
以北方华创对2019年的总结为例，称在2019年，
“公司12吋集成电路装备在工艺验证、工艺拓展及下一代关键设备研发方面取得长足进步，年内推进了二十余种新工艺的开发验证，下一代先进技术核心设备研发也取得较好进展。”
由于EUV光刻机是瓶颈，相信2030年做出EUV光刻机的时间节点必然会修改，因为这个时间节点已经早已不适应时代的发展需求。
实际上这个时间点是来自于2015年中国政府公布的《中国制造2025》，也就是这也是5年前制定的规划，那么该报告开始论证，则是2015年之前的事情了，那个时候的世界跟今天完全不一样，我们今天熟知的长江存储和合肥长鑫在2015年甚至还都不存在，中兴第一次被制裁还是在2016年的事情，第二次制裁是在2018年。
当时制定EUV光刻机规划的人们，估计也很难预感到5年后形势变化会如此激烈。
因此加大资源投入，重新制定EUV光刻机研发节点是必然的事情，这个时间会提前到什么时候我们就不去猜测了，但是必然会从2030年大大提前，
相应的其他国产半导体生产设备的进度也需要能够跟得上，以配合7nm以下的去美化产线搭建。
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